深圳国际研究生院在二维材料缺陷工程用于表面增强拉曼散射领域取得进展
新清华 2025年10月17日 第2378期 学术前沿
本报讯 近日,清华大学深圳国际研究生院雷钰副教授团队开发了一种等离子体处理二维材料引入缺陷的通用方法,通过等离子体处理在单层二硫化钨(WS2)中引入纳米孔,显著增强分子吸附能力。同时,纳米孔浓度的变化引起了WS2的光致发光光谱从红移到蓝移的转变,蓝移WS2与待测分子形成更好的带隙匹配,极大地提高了电荷转移效率,实现更低浓度的分子检测。
研究成果以“在单层WS2中设计纳米孔用于原子级平整二维表面的单分子成像”为题,发表在《科学进展》(Science Advances)期刊上。雷钰为该论文的通讯作者,深圳国际研究生院2023级博士生何浩琦、2025级博士生赵明闯和化学系2024级博士生徐恒越为共同第一作者。
(深圳国际研究生院)